光刻膠上方加上一層薄薄的水，來把193奈米波長折射成134奈米，一下子突破了157奈米的難關。
這種技術，被ASML所使用，這幾年的時間裡，先進製程的光刻機市場，基本都被ASML所壟斷。
光刻機作為晶片製造的上游產業，銷售市場非常狹窄，銷量也十分有限，當時一家的年銷量也不過幾十臺，但是光刻機又是一個需要鉅額資金持續投入研發、持續更新迭代的高精尖技術，而且隨著晶片製程越小，技術難度又呈現指數級增加。
尼炕是一步慢步步慢，市場份額不斷降低。
因此，當來自華夏的諮詢函一到，就引起了尼炕方面的高度重視，儘管基於《瓦森納協議，禁止向華夏出售或者轉讓先進高科技技術和先進材料等，但是，尼炕方面認為，目前的DUV光刻機，已經不再是最先進的高科技技術了，因為ASML方面更先進的EUV光刻機已經研發完畢了。
對於尼炕的熱情，袁旭自然是全盤接受了。